本發(fā)明涉及陶瓷生產(chǎn)設(shè)備，尤其是指一種輥筒式坯底噴釉設(shè)備及其控制方法。
背景技術(shù)：
1、隨著陶瓷磚市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)的日趨激烈，消費(fèi)者及下游應(yīng)用端對(duì)產(chǎn)品質(zhì)量的要求不斷升級(jí)，除了傳統(tǒng)的花色、平整度指標(biāo)外，磚形規(guī)整度及表面輥棒紋缺陷已成為影響產(chǎn)品市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)力的關(guān)鍵因素。其中，輥棒紋是陶瓷磚燒成過(guò)程中常見(jiàn)的質(zhì)量缺陷，多表現(xiàn)為與輥棒方向平行的波浪紋或壓痕，主要因高溫下磚坯與輥棒接觸受力不均、輥棒粘臟或變形等因素導(dǎo)致，該缺陷不僅破壞陶瓷磚表面的美觀性，還可能影響產(chǎn)品的結(jié)構(gòu)穩(wěn)定性，對(duì)陶瓷磚的銷售造成直接負(fù)面影響，成為制約企業(yè)產(chǎn)品升級(jí)的重要瓶頸。
2、為改善磚形及輥棒紋缺陷，行業(yè)內(nèi)逐漸形成了通過(guò)在陶瓷磚底部噴涂泥漿釉形成保護(hù)膜的技術(shù)方案。該方案的核心原理是利用底部保護(hù)膜隔離磚坯與輥棒的直接接觸，減少輥棒對(duì)磚坯的摩擦阻力與局部壓力，從而降低輥棒紋產(chǎn)生的概率，同時(shí)有助于提升磚形規(guī)整度。然而，在實(shí)際生產(chǎn)過(guò)程中，采用噴頭噴涂泥漿釉時(shí)，霧化后的泥漿釉顆粒易發(fā)生飛濺，部分飛濺的顆粒會(huì)附著在陶瓷磚的上表面（磚面），形成點(diǎn)狀污漬或不規(guī)則瑕疵，不僅破壞了陶瓷磚的裝飾效果，還導(dǎo)致產(chǎn)品合格率下降，嚴(yán)重影響了該技術(shù)方案的推廣應(yīng)用。
3、為解決噴涂過(guò)程中的釉料飛濺污染問(wèn)題，相關(guān)技術(shù)領(lǐng)域已出現(xiàn)針對(duì)性的改進(jìn)嘗試，例如公開(kāi)號(hào)為cn121043246a的中國(guó)專利，公開(kāi)了一種陶瓷磚精準(zhǔn)覆釉膜裝置。該裝置通過(guò)在輸送裝置頂部設(shè)置與磚坯同步移動(dòng)的移動(dòng)遮擋裝置，試圖在不影響底部噴涂的前提下，遮擋磚坯上表面以避免釉料霧化污染。其所述的移動(dòng)遮擋裝置具體為水平設(shè)置的輥筒傳送帶，通過(guò)傳送帶底部覆蓋磚坯上表面實(shí)現(xiàn)遮擋，并利用傳送帶黏附帶走從磚坯之間縫隙噴出的釉料，進(jìn)而達(dá)到防污染的目的。
4、然而，該專利記載的技術(shù)方案存在明顯的技術(shù)矛盾與應(yīng)用缺陷，實(shí)際使用效果不佳。具體而言，該方案對(duì)輥筒傳送帶的皮帶設(shè)置精度提出了極高要求：一方面，若皮帶無(wú)法始終保持繃緊的水平狀態(tài)，其與磚坯上表面的間距就難以精準(zhǔn)控制，過(guò)大會(huì)導(dǎo)致遮擋失效，過(guò)小則易與磚坯發(fā)生摩擦；另一方面，若為保證間距精度而將皮帶過(guò)度繃緊，皮帶底面會(huì)形成剛性水平面，且皮帶與磚坯同步移動(dòng)導(dǎo)致黏附釉料的區(qū)域面積固定且有限，當(dāng)釉料從磚坯端部縫隙噴射至該剛性表面時(shí)，會(huì)因撞擊力產(chǎn)生二次飛濺與霧化，反而加劇陶瓷磚端部區(qū)域的污染；同時(shí)，若皮帶直接貼合磚坯上表面，皮帶上未完全清除的黏附釉料會(huì)轉(zhuǎn)移至磚面，造成二次污染。綜上，該技術(shù)方案在移動(dòng)遮擋裝置的設(shè)置精度與防污染應(yīng)用效果之間存在不可調(diào)和的矛盾，無(wú)法從根本上解決釉料飛濺污染問(wèn)題，難以滿足陶瓷磚規(guī)模化生產(chǎn)的高質(zhì)量需求。
5、因此，現(xiàn)有技術(shù)中既缺乏能夠兼顧輥棒紋改善與磚面防污染的有效方案，已有的改進(jìn)嘗試又存在結(jié)構(gòu)性技術(shù)缺陷，行業(yè)亟需一種能夠徹底解決陶瓷磚底部噴涂過(guò)程中釉料飛濺污染、同時(shí)保證輥棒紋改善效果的技術(shù)方案，以突破當(dāng)前生產(chǎn)瓶頸，提升陶瓷磚產(chǎn)品質(zhì)量與市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)力。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
1、本發(fā)明為了解決現(xiàn)有技術(shù)中陶瓷磚生產(chǎn)過(guò)程中陶瓷磚底部噴涂過(guò)程中釉料飛濺污染的技術(shù)問(wèn)題，提供一種輥筒式坯底噴釉設(shè)備及其控制方法。
2、為了解決上述技術(shù)問(wèn)題，本發(fā)明采用的技術(shù)方案為：
3、一種輥筒式坯底噴釉設(shè)備，其包括：輸送裝置，用于輸送磚坯；所述輸送裝置的內(nèi)部沿垂直于所述輸送裝置的輸送方向間隔設(shè)置有若干個(gè)噴釉間隙；多組噴涂裝置，設(shè)置于所述輸送裝置的底部；多個(gè)所述噴涂裝置與多個(gè)所述噴釉間隙一一對(duì)應(yīng)，所述噴涂裝置與外部的輸送泵相連接，以通過(guò)所述噴釉間隙將釉料噴涂至所述運(yùn)輸裝置上輸送的磚坯的底部；輥筒收集裝置，設(shè)有釉料清理組件和至少一個(gè)輥筒組，所述輥筒組設(shè)置于所噴釉間隙的正上方，所述輥筒收集裝置利用輥筒組中吸附輥筒的自轉(zhuǎn)和釉料清理組件的清理作用，將噴射至磚坯上方的釉料進(jìn)行黏附和清理。
4、優(yōu)選地，所述輥筒組至少包括兩個(gè)吸附輥筒，兩個(gè)吸附輥筒均平行于所述噴釉間隙設(shè)置，且兩個(gè)吸附輥筒沿水平方向靠近設(shè)置，兩個(gè)吸附輥筒靠近的區(qū)域形成黏附間隙，所述黏附間隙與所述噴釉間隙在豎直方向上正對(duì)設(shè)置。
5、優(yōu)選地，所述輥筒組中的兩個(gè)吸附輥筒沿豎直方向錯(cuò)開(kāi)安裝，使得位于上方的吸附輥筒能在豎直方向上將該輥筒組內(nèi)的黏附間隙進(jìn)行遮擋。
6、優(yōu)選地，所述輸送裝置包括多根水平且平行設(shè)置的運(yùn)輸輥棒和用于驅(qū)動(dòng)運(yùn)輸棍棒同步轉(zhuǎn)動(dòng)的運(yùn)輸驅(qū)動(dòng)裝置；相鄰的所述運(yùn)輸棍棒之間設(shè)有轉(zhuǎn)動(dòng)間隙，所述噴釉間隙為所述轉(zhuǎn)動(dòng)間隙中的全部或者部分；所述輥筒收集裝置還包括轉(zhuǎn)動(dòng)驅(qū)動(dòng)裝置，所述轉(zhuǎn)動(dòng)驅(qū)動(dòng)裝置用于驅(qū)動(dòng)所述輥筒組中的吸附輥筒同步轉(zhuǎn)動(dòng)；所述運(yùn)輸驅(qū)動(dòng)裝置和所述轉(zhuǎn)動(dòng)驅(qū)動(dòng)裝置的驅(qū)動(dòng)不同步，且使得所述吸附輥筒轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)的外圓周線速度值大于所述輸送裝置上的磚坯沿的移動(dòng)速度值。
7、優(yōu)選地，所述輥筒收集裝置還包括釉料清理組件；所述釉料清理組件包括平行安裝于各個(gè)吸附輥筒上方的清除件；所述清理組件的兩端通過(guò)安裝架安裝于所述吸附輥筒兩端的外側(cè)；所述清除件為條形擠壓輥筒或條形刮刀；所述條形擠壓輥筒或所述條形刮刀的底部緊貼所述吸附輥筒的外壁設(shè)置。
8、優(yōu)選地，所述運(yùn)輸棍棒的運(yùn)輸承載段的外壁設(shè)有若干個(gè)環(huán)狀翅片，多個(gè)環(huán)狀翅片沿著所述運(yùn)輸棍棒的延伸方向間隔分布，且多個(gè)運(yùn)輸棍棒上的環(huán)狀翅片在運(yùn)輸方向上不完全對(duì)應(yīng)。
9、優(yōu)選地，所述輸送裝置的底部設(shè)有翻轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)裝置、擋釉罩和多根噴釉轉(zhuǎn)軸，所述噴釉轉(zhuǎn)軸沿運(yùn)輸方向平行間隔設(shè)置；所述噴釉轉(zhuǎn)軸安裝有若干個(gè)噴頭，多個(gè)噴頭沿著噴釉轉(zhuǎn)軸的延伸方向排布設(shè)置，所述噴頭的進(jìn)料端與外部的輸送泵相連接；所述翻轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)裝置用于驅(qū)動(dòng)所述噴釉轉(zhuǎn)軸繞自身軸線轉(zhuǎn)動(dòng)；所述擋釉罩的頂部設(shè)有條形窗口部，所述條形窗口部與所述噴釉間隙沿豎直方向正對(duì)設(shè)置；所述擋釉罩罩設(shè)于所述噴涂裝置的外部；多組所述噴涂裝置的底部設(shè)有接料槽，所述接料槽用于將上方掉落的釉料接住收集。
10、優(yōu)選地，還設(shè)有控制系統(tǒng)，所述控制系統(tǒng)包括：控制器和位置傳感器；所述位置傳感器用于檢測(cè)所述輸送裝置上的磚坯的位置信息；所述控制器與運(yùn)輸驅(qū)動(dòng)裝置、轉(zhuǎn)動(dòng)驅(qū)動(dòng)裝置、輸送泵、翻轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)裝置和位置傳感器電聯(lián)接。
11、一種控制方法，其應(yīng)用于上述的輥筒式坯底噴釉設(shè)備，所述控制方法包括如下內(nèi)容：
12、s1步驟：位置傳感器對(duì)輸送裝置上磚坯的位置信息進(jìn)行檢測(cè)，得到磚坯的位置信息；控制器根據(jù)磚坯的位置信息進(jìn)而得到磚坯與噴釉間隙的相對(duì)位置信息；
13、s2步驟：所述控制器根據(jù)噴釉間隙的相對(duì)位置信息，判斷在豎直方向上磚坯是否將噴釉間隙遮擋；具體的，當(dāng)磚坯將噴釉間隙進(jìn)行遮擋，所述控制器控制向運(yùn)輸驅(qū)動(dòng)裝置、轉(zhuǎn)動(dòng)驅(qū)動(dòng)裝置、輸送泵和翻轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)裝置發(fā)出控制信號(hào)，使得噴頭豎直向上噴出釉料，輸送裝置載著磚坯水平移動(dòng)，吸附輥筒開(kāi)始轉(zhuǎn)動(dòng)；當(dāng)磚坯未將噴釉間隙進(jìn)行遮擋，即噴釉間隙向上外露時(shí)，所述控制器控制向運(yùn)輸驅(qū)動(dòng)裝置、轉(zhuǎn)動(dòng)驅(qū)動(dòng)裝置、輸送泵和翻轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)裝置發(fā)出控制信號(hào)，輸送裝置載著磚坯水平繼續(xù)移動(dòng)，吸附輥筒繼續(xù)轉(zhuǎn)動(dòng)，噴頭翻轉(zhuǎn)至向一側(cè)傾斜將釉料噴出；
14、s3步驟：位置傳感器對(duì)輸送裝置上磚坯的位置信息進(jìn)行檢測(cè)，當(dāng)未檢測(cè)到輸送裝置上有磚坯時(shí)，所述控制器控制向運(yùn)輸驅(qū)動(dòng)裝置、轉(zhuǎn)動(dòng)驅(qū)動(dòng)裝置、輸送泵和翻轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)裝置發(fā)出控制信號(hào)，使得輸送裝置和吸附輥筒停止轉(zhuǎn)動(dòng)；噴頭停止噴釉。
15、優(yōu)選地，所述吸附輥筒的外圓周的轉(zhuǎn)動(dòng)線速度值大于輸送裝置上磚坯的移動(dòng)速度值。
16、本發(fā)明的有益效果：
17、1.所述噴涂裝置利用所述輸送裝置的噴釉間隙向輸送裝置上的磚坯的底部噴涂釉料，這樣既不會(huì)影響磚坯在輸送裝置上的移動(dòng)，也不會(huì)讓釉料大量沾染到輸送裝置的承載結(jié)構(gòu)上，可以進(jìn)一步減小釉料通過(guò)輸送裝置對(duì)磚坯的上表面的污染。
18、2.所述輥筒收集裝置采用了吸附輥筒對(duì)噴射至輸送裝置上方的釉料進(jìn)行黏附，被黏附的在吸附輥筒圓柱面的釉料隨著吸附輥筒轉(zhuǎn)動(dòng)被帶走，當(dāng)吸附輥筒轉(zhuǎn)動(dòng)至所述釉料清理組件處，吸附輥筒圓柱面上的釉料會(huì)被擠壓或者刮除，進(jìn)而從吸附輥筒上分離最終被收集；清理干凈釉料的吸附輥筒的圓柱面又可以轉(zhuǎn)動(dòng)至噴釉間隙的正上方繼續(xù)黏附釉料，如此循環(huán)，所述輥筒收集裝置可以更加高效精準(zhǔn)地黏附液態(tài)釉料或霧化釉料，所述輥筒收集裝置與現(xiàn)有技術(shù)相比，其利用吸附輥筒的圓柱面循環(huán)轉(zhuǎn)動(dòng)，可以實(shí)現(xiàn)對(duì)釉料的連續(xù)高效黏附清理操作，與現(xiàn)有技術(shù)中有限的黏附面積相比，吸附輥筒的黏附能力更好，黏附效率更高；噴射至輸送裝置上方的釉料能及時(shí)被黏附清理，從而更好地避免陶瓷磚生產(chǎn)過(guò)程中坯底噴釉過(guò)程中釉料霧化或飛濺污染磚坯的上表面的現(xiàn)場(chǎng)，大大提高了陶瓷磚產(chǎn)品的生產(chǎn)質(zhì)量。
19、3.所述噴頭在所述噴釉轉(zhuǎn)軸和翻轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)裝置的驅(qū)動(dòng)下，能根據(jù)需要改變噴釉的方向，比如當(dāng)需要對(duì)磚坯底部噴涂釉料時(shí)，所述噴頭翻轉(zhuǎn)至與噴釉間隙正對(duì)，使得釉料能精準(zhǔn)穿過(guò)噴釉間隙噴涂至磚坯底部；當(dāng)磚坯的端面間隙與噴釉間隙正對(duì)或者磚坯噴涂完成時(shí)，噴頭就會(huì)翻轉(zhuǎn)至一側(cè)，使得噴射出的釉料被擋釉罩擋住，最終回流至接料槽中被收集，節(jié)省了釉料。此外，設(shè)置可翻轉(zhuǎn)的噴頭，配合上述輥筒收集裝置，上下配合，能更加高效精準(zhǔn)地避免釉料霧化或飛濺導(dǎo)致磚坯上表面污染的情況發(fā)生。