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        一種基于臭氧的硅片慢提拉清洗方法與流程

        文檔序號:45273033發(fā)布日期:2026-04-17 20:15閱讀:12來源:國知局

        本發(fā)明涉及硅片生產(chǎn),具體是一種基于臭氧的硅片慢提拉清洗方法。


        背景技術(shù):

        1、太陽能電池在實現(xiàn)碳中和目標(biāo)中扮演著核心角色,其技術(shù)演進(jìn)與清潔能源轉(zhuǎn)型緊密關(guān)聯(lián)。2023年全球光伏發(fā)電減少二氧化碳排放超12億噸,相當(dāng)于植樹260億棵,每安裝1gw光伏電站,相當(dāng)于:年減碳量≈100萬噸、替代煤炭≈40萬噸、等效森林面積≈2.5萬公頃,國際能源署(iea)預(yù)測:2050年光伏將提供全球35%電力,成為碳中和第一支柱。

        2、目前光伏電池主流技術(shù)更新迭代速度日益加快,從最初的鋁背場電池(aluminiumback?surface?field)、發(fā)射極和背鈍化電池(passivated?emitter?and?rear?cell)?、異質(zhì)結(jié)電池(heterojunction?with?intrinsic?thin?layer)、隧穿氧化層鈍化接觸電池(tunnel?oxide?passivated?contact)到全背接觸電池(all?back?contact)等技術(shù),電池光電轉(zhuǎn)化效率越來越高。背接觸光伏電池由于其正面無柵線遮擋,減少了入射光的反射,增大了短路電流,使得在上述技術(shù)中效率優(yōu)勢明顯。但背接觸光伏電池在常規(guī)清洗工藝流程中常會出現(xiàn)效率損失,使得背接觸光伏電池?zé)o法滿足實際使用需求:現(xiàn)有清洗流程中,慢提拉工藝和烘干工藝會使硅片表面形成一種疏松的自然氧化層結(jié)構(gòu),該自然氧化層結(jié)構(gòu)會對鈍化工藝造成影響,導(dǎo)致開路電壓和填充因子降低,從而產(chǎn)生效率損失。

        3、基于此,現(xiàn)在提供一種基于臭氧的硅片慢提拉清洗方法,可以消除現(xiàn)有技術(shù)方案存在的弊端。


        技術(shù)實現(xiàn)思路

        1、本發(fā)明的目的在于提供一種基于臭氧的硅片慢提拉清洗方法,以解決背景技術(shù)中的問題。

        2、為實現(xiàn)上述目的,本發(fā)明提供如下技術(shù)方案:

        3、一種基于臭氧的硅片慢提拉清洗方法,具體包括以下步驟:

        4、步驟s1、通過機械臂提花籃并將裝有硅片的花籃放入慢提拉槽中,使花籃在槽體內(nèi)按照預(yù)設(shè)工藝時間靜置;

        5、步驟s2、向慢提拉槽底部通入臭氧氣體進(jìn)行鼓泡操作,預(yù)設(shè)鼓泡時間后停止通入臭氧氣體,結(jié)束鼓泡;

        6、步驟s3、以預(yù)設(shè)速度緩慢勻速提起花籃,完全提起后將花籃放入烘干槽,完成硅片慢提拉清洗操作;

        7、在所述烘干槽內(nèi)對硅片進(jìn)行烘干操作,使硅片表面形成均勻且致密的自然氧化層,用于實現(xiàn)后續(xù)硅片加工操作;

        8、所述慢提拉槽和烘干槽均設(shè)置在濕法槽式機中,與慢提拉槽位置相適配的所述濕法槽式機的外側(cè)安裝有臭氧發(fā)生器。

        9、進(jìn)一步地,所述慢提拉槽為包含主槽和副槽的內(nèi)外槽結(jié)構(gòu),所述慢提拉槽底部設(shè)有均勻分布的臭氧管路,所述臭氧管路的一端與所述臭氧發(fā)生器的輸出端相連接,所述臭氧管路間距為100mm,所述臭氧管路上設(shè)有孔徑一致、等距排布的若干小孔,所述臭氧氣體通過小孔進(jìn)入慢提拉槽內(nèi)部并與純水混合。

        10、進(jìn)一步地,所述烘干槽為外置加熱熱源的單槽結(jié)構(gòu),氣體通過熱源升高溫度經(jīng)過濾芯過濾后進(jìn)入烘干槽內(nèi)進(jìn)行工藝,所述烘干槽的工藝溫度為85℃~105℃,工藝時間為800s。

        11、進(jìn)一步地,所述小孔的直徑為0.5mm,孔距為20mm。

        12、進(jìn)一步地,所述臭氧發(fā)生器的最大流量為20l/min。

        13、進(jìn)一步地,所述自然氧化層的厚度為0.1~1nm。

        14、進(jìn)一步地,所述慢提拉槽的頂部設(shè)有用于抽取逸出氣體的抽風(fēng)設(shè)備,所述抽風(fēng)設(shè)備的工藝壓力為160~180pa。

        15、進(jìn)一步地,所述預(yù)設(shè)鼓泡時間為50s。

        16、進(jìn)一步地,所述慢提拉槽的槽體溢流工藝參數(shù)設(shè)定為有籃、連續(xù)和不溢流。

        17、進(jìn)一步地,所述慢提拉槽的槽體鼓泡工藝參數(shù)設(shè)定為有籃、連續(xù)和不鼓泡。

        18、相較于現(xiàn)有技術(shù),本發(fā)明的有益效果如下:

        19、本發(fā)明通過向慢提拉槽底部通入臭氧氣體進(jìn)行鼓泡處理,使臭氧與純水充分混合形成均勻的水氧層,在后續(xù)烘干過程中促使硅片表面生成一層致密、均勻的自然氧化層,該氧化層結(jié)構(gòu)致密、缺陷少,能顯著降低半導(dǎo)體界面態(tài)密度,提升載流子傳輸效率,減少量子隧穿導(dǎo)致的漏電流。相較于傳統(tǒng)工藝形成的疏松氧化層,本發(fā)明所形成的氧化層與后續(xù)高溫鈍化工藝的氧化層結(jié)構(gòu)更為匹配,從而有效提升開路電壓與填充因子,最終提高ibc電池的光電轉(zhuǎn)換效率。此外,本發(fā)明僅需在現(xiàn)有濕法槽式機中加裝臭氧發(fā)生器與管路,易于在產(chǎn)線中推廣應(yīng)用,具有較好的產(chǎn)業(yè)實用價值與經(jīng)濟(jì)收益。


        技術(shù)特征:

        1.一種基于臭氧的硅片慢提拉清洗方法,其特征在于,具體包括以下步驟:

        2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種基于臭氧的硅片慢提拉清洗方法,其特征在于,所述慢提拉槽為包含主槽和副槽的內(nèi)外槽結(jié)構(gòu),所述慢提拉槽底部設(shè)有均勻分布的臭氧管路,所述臭氧管路的一端與所述臭氧發(fā)生器的輸出端相連接,所述臭氧管路間距為100mm,所述臭氧管路上設(shè)有孔徑一致、等距排布的若干小孔,所述臭氧氣體通過小孔進(jìn)入慢提拉槽內(nèi)部并與純水混合。

        3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種基于臭氧的硅片慢提拉清洗方法,其特征在于,所述烘干槽為外置加熱熱源的單槽結(jié)構(gòu),氣體通過熱源升高溫度經(jīng)過濾芯過濾后進(jìn)入烘干槽內(nèi)進(jìn)行工藝,所述烘干槽的工藝溫度為85℃~105℃,工藝時間為800s。

        4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種基于臭氧的硅片慢提拉清洗方法,其特征在于,所述小孔的直徑為0.5mm,孔距為20mm。

        5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種基于臭氧的硅片慢提拉清洗方法,其特征在于,所述臭氧發(fā)生器的最大流量為20l/min。

        6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種基于臭氧的硅片慢提拉清洗方法,其特征在于,所述自然氧化層的厚度為0.1~1nm。

        7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種基于臭氧的硅片慢提拉清洗方法,其特征在于,所述慢提拉槽的頂部設(shè)有用于抽取逸出氣體的抽風(fēng)設(shè)備,所述抽風(fēng)設(shè)備的工藝壓力為160~180pa。

        8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種基于臭氧的硅片慢提拉清洗方法,其特征在于,所述預(yù)設(shè)鼓泡時間為50s。

        9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種基于臭氧的硅片慢提拉清洗方法,其特征在于,所述慢提拉槽的槽體溢流工藝參數(shù)設(shè)定為有籃、連續(xù)和不溢流。

        10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種基于臭氧的硅片慢提拉清洗方法,其特征在于,所述慢提拉槽的槽體鼓泡工藝參數(shù)設(shè)定為有籃、連續(xù)和不鼓泡。


        技術(shù)總結(jié)
        本發(fā)明公開了一種基于臭氧的硅片慢提拉清洗方法,涉及硅片生產(chǎn)技術(shù)領(lǐng)域,包括:通過機械臂提花籃并將裝有硅片的花籃放入慢提拉槽中;向慢提拉槽底部通入臭氧氣體進(jìn)行鼓泡操作,預(yù)設(shè)鼓泡時間后停止通入臭氧氣體,結(jié)束鼓泡;以預(yù)設(shè)速度緩慢勻速提起花籃,完全提起后將花籃放入烘干槽;在烘干槽內(nèi)對硅片進(jìn)行烘干操作,使硅片表面形成均勻且致密的自然氧化層;所述慢提拉槽和烘干槽均設(shè)置在濕法槽式機中,所述濕法槽式機的外側(cè)安裝有臭氧發(fā)生器。本發(fā)明所形成的氧化層與后續(xù)工藝結(jié)構(gòu)更為匹配,可提升開路電壓與填充因子,最終提高光電轉(zhuǎn)換效率。本發(fā)明僅需在現(xiàn)有濕法槽式機中加裝臭氧發(fā)生器與管路,易于在產(chǎn)線中推廣應(yīng)用,具有較好的產(chǎn)業(yè)實用價值。

        技術(shù)研發(fā)人員:陳志利,馬杰華,張敏,陳龍,張發(fā)玉
        受保護(hù)的技術(shù)使用者:宜賓英發(fā)德睿科技有限公司
        技術(shù)研發(fā)日:
        技術(shù)公布日:2026/4/16
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