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        霧化器及電子霧化裝置的制作方法

        文檔序號(hào):45752078發(fā)布日期:2026-06-10 00:27閱讀:2來(lái)源:國(guó)知局

        本技術(shù)涉及霧化,特別是涉及一種霧化器及電子霧化裝置。


        背景技術(shù):

        1、電子霧化裝置是一種用于產(chǎn)生氣溶膠的裝置。相關(guān)技術(shù)中,電子霧化裝置的霧化器包括儲(chǔ)液腔和設(shè)置在儲(chǔ)液腔中的霧化芯;霧化芯中設(shè)有傳導(dǎo)件和霧化組件;儲(chǔ)液腔中的氣溶膠生成基質(zhì)可以流向傳導(dǎo)件,通過(guò)傳導(dǎo)件將氣溶膠生成基質(zhì)導(dǎo)向霧化組件,然后由霧化組件對(duì)氣溶膠生成基質(zhì)進(jìn)行加熱霧化。

        2、然而,傳統(tǒng)的霧化器在外部溫度或氣壓發(fā)生變化時(shí),儲(chǔ)液腔中的氣溶膠生成基質(zhì)容易出現(xiàn)滲漏問(wèn)題。

        3、本申請(qǐng)的背景技術(shù)所公開(kāi)的以上信息僅用于理解本申請(qǐng)構(gòu)思的背景,并非指示或暗示其包含了現(xiàn)有技術(shù)的信息。


        技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

        1、基于此,有必要針對(duì)上述問(wèn)題,提供一種霧化器及電子霧化裝置。

        2、一種霧化器,其包括:

        3、霧化座,所述霧化座內(nèi)形成有供料通道和霧化腔;

        4、霧化組件,所述霧化組件設(shè)于所述霧化腔內(nèi)并用于將氣溶膠生成基質(zhì)霧化以形成氣溶膠;

        5、儲(chǔ)料倉(cāng),所述儲(chǔ)料倉(cāng)用于裝載所述氣溶膠生成基質(zhì),所述儲(chǔ)料倉(cāng)通過(guò)供料通道與所述霧化組件連通,所述供料通道能夠?qū)⑺鰵馊苣z生成基質(zhì)輸送至所述霧化組件;

        6、溢流通道,所述溢流通道與所述儲(chǔ)料倉(cāng)或所述供料通道連通;以及

        7、回吸通道,所述回吸通道設(shè)置在所述儲(chǔ)料倉(cāng)、霧化組件及供料通道之外的空間并與所述溢流通道連通,所述回吸通道被設(shè)置為在所述儲(chǔ)料倉(cāng)內(nèi)的氣壓大于外界氣壓時(shí)收容流經(jīng)所述溢流通道的至少部分所述氣溶膠生成基質(zhì),和/或在所述儲(chǔ)料倉(cāng)內(nèi)的氣壓小于外界氣壓時(shí)向溢流通道返還至少部分所述氣溶膠生成基質(zhì)。

        8、上述霧化器至少可以實(shí)現(xiàn)如下有益效果:當(dāng)儲(chǔ)料倉(cāng)內(nèi)的氣壓大于外界氣壓時(shí),回吸通道可收容從溢流通道流入的氣溶膠生成基質(zhì),防止氣溶膠生成基質(zhì)從霧化組件處滲出,避免漏液?jiǎn)栴};當(dāng)儲(chǔ)料倉(cāng)內(nèi)的氣壓小于外界氣壓時(shí),回吸通道內(nèi)的氣溶膠生成基質(zhì)可經(jīng)溢流通道自動(dòng)回流至儲(chǔ)料倉(cāng)或供料通道,確保霧化組件的持續(xù)供液,避免供液不足導(dǎo)致的干燒問(wèn)題。可以理解的,若未設(shè)置回吸通道,當(dāng)儲(chǔ)料倉(cāng)內(nèi)的氣壓升高時(shí),膨脹的氣體會(huì)直接擠壓氣溶膠生成基質(zhì)向霧化組件方向移動(dòng),導(dǎo)致液體滲出,待到儲(chǔ)料倉(cāng)內(nèi)的氣壓降低時(shí),則可能會(huì)導(dǎo)致后續(xù)供液不足引發(fā)干燒風(fēng)險(xiǎn)。換言之,本申請(qǐng)的霧化器的回吸通道具備自動(dòng)調(diào)節(jié)功能,可以在儲(chǔ)料倉(cāng)相對(duì)外界正壓時(shí)吸收多余氣溶膠生成基質(zhì),在儲(chǔ)料倉(cāng)相對(duì)外界負(fù)壓時(shí)返還氣溶膠生成基質(zhì),維持系統(tǒng)壓力平衡,回吸通道能夠?qū)馊苣z生成基質(zhì)的輸送起到緩沖暫存等作用,無(wú)需額外動(dòng)力或復(fù)雜控制機(jī)構(gòu),僅依靠氣壓差驅(qū)動(dòng)氣溶膠生成基質(zhì)流動(dòng),便能夠有效應(yīng)對(duì)溫度或氣壓波動(dòng)引起儲(chǔ)料倉(cāng)的氣溶膠生成基質(zhì)的體積變化,確保霧化器在不同環(huán)境條件下的穩(wěn)定運(yùn)行,結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、成本低且可靠性高。

        9、在其中一些實(shí)施方式中,所述回吸通道為開(kāi)設(shè)于所述霧化座上的開(kāi)孔。

        10、在其中一些實(shí)施方式中,所述霧化器還包括內(nèi)部中空以圍合形成所述回吸通道的回吸管。

        11、在其中一些實(shí)施方式中,所述霧化器還包括設(shè)于所述霧化座內(nèi)的密封體,所述回吸通道為開(kāi)設(shè)于所述密封體上的開(kāi)孔,或所述回吸通道是所述密封體與所述霧化座的部分內(nèi)壁圍合形成。

        12、在其中一些實(shí)施方式中,所述霧化座具有隔板,所述儲(chǔ)料倉(cāng)、所述供料通道和所述霧化組件位于所述隔板的一側(cè),所述回吸通道位于所述隔板的另一側(cè),所述隔板將所述回吸通道隔離在所述霧化組件、所述供料通道和儲(chǔ)料倉(cāng)之外。

        13、在其中一些實(shí)施方式中,所述隔板上設(shè)有所述溢流通道。

        14、在其中一些實(shí)施方式中,所述霧化座形成有進(jìn)氣孔及與所述進(jìn)氣孔連通的集料腔,所述回吸通道的一端與所述集料腔連通,所述集料腔用于收容來(lái)自所述回吸通道的所述氣溶膠生成基質(zhì),所述回吸通道的另一端與所述溢流通道連通。

        15、在其中一些實(shí)施方式中,所述霧化座包括第一霧化座、可拆卸連接于所述第一霧化座下方的第二霧化座以及底蓋,所述第一霧化座內(nèi)設(shè)有所述供料通道和所述霧化腔,所述第二霧化座的頂部設(shè)有隔板,所述底蓋嵌設(shè)于所述第二霧化座的底部并與所述隔板、所述第二霧化座的內(nèi)表面圍合形成所述集料腔,所述底蓋上開(kāi)設(shè)有所述進(jìn)氣孔。

        16、在其中一些實(shí)施方式中,所述底蓋朝向所述隔板的一側(cè)設(shè)有隔擋部,所述隔擋部環(huán)繞設(shè)置于所述進(jìn)氣孔的周緣,所述隔擋部的外側(cè)周面與所述隔板、所述底蓋、所述第二霧化座的內(nèi)表面圍合形成所述集料腔。

        17、在其中一些實(shí)施方式中,所述底蓋朝向所述隔板的一側(cè)設(shè)有毛細(xì)通道,所述毛細(xì)通道與所述回吸通道連通。

        18、在其中一些實(shí)施方式中,所述霧化座還包括第一密封件,所述第二霧化座的外側(cè)周面形成有第一密封槽,所述第一密封件嵌設(shè)于所述第一密封槽內(nèi)且密封抵持于所述第一密封槽的槽壁與所述第一霧化座的內(nèi)表面。

        19、在其中一些實(shí)施方式中,所述霧化座還包括第二密封件,所述底蓋的外側(cè)周面形成有第二密封槽,所述第二密封件嵌設(shè)于所述第二密封槽內(nèi)且密封抵持于所述第二密封槽的槽壁與所述第二霧化座的內(nèi)表面。

        20、本申請(qǐng)還提供一種電子霧化裝置,其包括供電組件以及如上述任一實(shí)施例所述的霧化器,所述供電組件與所述霧化組件電連接,并為所述霧化組件提供能量。

        21、在其中一些實(shí)施方式中,所述霧化器與所述供電組件可拆卸連接。

        22、在其中一些實(shí)施方式中,所述霧化器與所述供電組件固定連接。

        23、上述電子霧化裝置因包括上述任一實(shí)施例所述的霧化器,故所述電子霧化裝置亦至少包括如下有益效果:當(dāng)儲(chǔ)料倉(cāng)內(nèi)的氣壓大于外界氣壓時(shí),回吸通道可收容從溢流通道流入的氣溶膠生成基質(zhì),防止氣溶膠生成基質(zhì)從霧化組件處滲出,避免漏液?jiǎn)栴};當(dāng)儲(chǔ)料倉(cāng)內(nèi)的氣壓小于外界氣壓時(shí),回吸通道內(nèi)的氣溶膠生成基質(zhì)可經(jīng)溢流通道自動(dòng)回流至儲(chǔ)料倉(cāng)或供料通道,確保霧化組件的持續(xù)供液,避免供液不足導(dǎo)致的干燒問(wèn)題。可以理解的,若未設(shè)置回吸通道,當(dāng)儲(chǔ)料倉(cāng)內(nèi)的氣壓升高時(shí),膨脹的氣體會(huì)直接擠壓氣溶膠生成基質(zhì)向霧化組件方向移動(dòng),導(dǎo)致液體滲出,待到儲(chǔ)料倉(cāng)內(nèi)的氣壓降低時(shí),則可能會(huì)導(dǎo)致后續(xù)供液不足引發(fā)干燒風(fēng)險(xiǎn)。換言之,本申請(qǐng)的霧化器的回吸通道具備自動(dòng)調(diào)節(jié)功能,可以在儲(chǔ)料倉(cāng)相對(duì)外界正壓時(shí)吸收多余氣溶膠生成基質(zhì),在儲(chǔ)料倉(cāng)相對(duì)外界負(fù)壓時(shí)返還氣溶膠生成基質(zhì),維持系統(tǒng)壓力平衡,回吸通道能夠?qū)馊苣z生成基質(zhì)的輸送起到緩沖暫存等作用,無(wú)需額外動(dòng)力或復(fù)雜控制機(jī)構(gòu),僅依靠氣壓差驅(qū)動(dòng)氣溶膠生成基質(zhì)流動(dòng),便能夠有效應(yīng)對(duì)溫度或氣壓波動(dòng)引起儲(chǔ)料倉(cāng)的氣溶膠生成基質(zhì)的體積變化,確保霧化器在不同環(huán)境條件下的穩(wěn)定運(yùn)行,結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、成本低且可靠性高。供電組件可以并為霧化器的霧化組件提供能量,以霧化組件將氣溶膠生成基質(zhì)霧化生成可供用戶抽吸的氣溶膠。


        技術(shù)特征:

        1.一種霧化器,其特征在于,包括:

        2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的霧化器,其特征在于,所述回吸通道為開(kāi)設(shè)于所述霧化座上的開(kāi)孔。

        3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的霧化器,其特征在于,所述霧化器還包括內(nèi)部中空以圍合形成所述回吸通道的回吸管。

        4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的霧化器,其特征在于,所述霧化器還包括設(shè)于所述霧化座內(nèi)的密封體,所述回吸通道為開(kāi)設(shè)于所述密封體上的開(kāi)孔,或所述回吸通道是所述密封體與所述霧化座的部分內(nèi)壁圍合形成。

        5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的霧化器,其特征在于,所述霧化座具有隔板,所述儲(chǔ)料倉(cāng)、所述供料通道和所述霧化組件位于所述隔板的一側(cè),所述回吸通道位于所述隔板的另一側(cè),所述隔板將所述回吸通道隔離在所述霧化組件、所述供料通道和儲(chǔ)料倉(cāng)之外。

        6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的霧化器,其特征在于,所述隔板上設(shè)有所述溢流通道。

        7.根據(jù)權(quán)利要求1至6中任一項(xiàng)所述的霧化器,其特征在于,所述霧化座形成有進(jìn)氣孔及與所述進(jìn)氣孔連通的集料腔,所述回吸通道的一端與所述集料腔連通,所述集料腔用于收容來(lái)自所述回吸通道的所述氣溶膠生成基質(zhì),所述回吸通道的另一端與所述溢流通道連通。

        8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的霧化器,其特征在于,所述霧化座包括第一霧化座、可拆卸連接于所述第一霧化座下方的第二霧化座以及底蓋,所述第一霧化座內(nèi)設(shè)有所述供料通道和所述霧化腔,所述第二霧化座的頂部設(shè)有隔板,所述底蓋嵌設(shè)于所述第二霧化座的底部并與所述隔板、所述第二霧化座的內(nèi)表面圍合形成所述集料腔,所述底蓋上開(kāi)設(shè)有所述進(jìn)氣孔。

        9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的霧化器,其特征在于,

        10.一種電子霧化裝置,其特征在于,包括供電組件以及如權(quán)利要求1至9中任一項(xiàng)所述的霧化器,所述供電組件與所述霧化組件電連接,并為所述霧化組件提供能量。


        技術(shù)總結(jié)
        本申請(qǐng)涉及一種霧化器及電子霧化裝置。霧化器包括霧化座、霧化組件、儲(chǔ)料倉(cāng)、溢流通道以及回吸通道。霧化座內(nèi)形成有供料通道和霧化腔;霧化組件設(shè)于霧化腔內(nèi)并用于將氣溶膠生成基質(zhì)霧化以形成氣溶膠;儲(chǔ)料倉(cāng)用于裝載氣溶膠生成基質(zhì),儲(chǔ)料倉(cāng)通過(guò)供料通道與霧化組件連通,供料通道能夠?qū)馊苣z生成基質(zhì)輸送至霧化組件;溢流通道與儲(chǔ)料倉(cāng)或供料通道連通;回吸通道設(shè)置在儲(chǔ)料倉(cāng)、霧化組件及供料通道之外的空間并與溢流通道連通,回吸通道被設(shè)置為在儲(chǔ)料倉(cāng)內(nèi)的氣壓大于外界氣壓時(shí)收容流經(jīng)溢流通道的至少部分氣溶膠生成基質(zhì),和/或在儲(chǔ)料倉(cāng)內(nèi)的氣壓小于外界氣壓時(shí)向溢流通道返還至少部分氣溶膠生成基質(zhì)。

        技術(shù)研發(fā)人員:彭超強(qiáng),彭飛,金虎,華春明
        受保護(hù)的技術(shù)使用者:深圳麥克韋爾科技有限公司
        技術(shù)研發(fā)日:20250427
        技術(shù)公布日:2026/6/9
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